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工业和信息化部在《原子级制造揭榜挂帅任务榜单》将“粉体原子级包覆技术与装备”列为重点攻关方向，明确提出“到 2026 年实现 < 1nm 薄膜沉积、批处理能力 >10kg/批次”的目标，直指行业痛点。粉体原子层沉积（ALD）技术，凭借其原子级精度、三维均匀包覆与工艺可扩展性，成为破局关键。
本文将详细介绍氧化锆（ZrO2）涂层的研究进展，包括它们的作用机制、性能提升效果以及在不同正极材料体系中的应用案例。
在本篇研究中，英国剑桥大学 Clare P. Grey 教授等人使用 Forge Nano PROMETHEUS 流化床原子层沉积（ALD）技术制备氧化铝涂层，探究其在富镍正极材料 NMC811（LiNi0.8Mn0.1Co0.1O2）上的双重作用，研究成果发表在Energy & Environmental Science 上！
Technoorg Linda 成立于 1990 年，是领先的离子束制样设备制造商。公司始终以技术创新为核心，以客户需求为导向，致力于为全球用户提供先进、可靠的解决方案。
本文作者借助 Forge Nano 流化床原子层沉积系统，通过多种表面分析技术，系统研究了低循环数 ALD 氧化铝涂层在 NMC111 表面的非均匀生长特性及其对电池性能的影响，为优化涂层设计提供了新的思路。
目前，开发用于清洁能源的新材料，伴随大量的测试数据，需要更先进的数字化工具进行数据管理和分析。而当前的工具无法满足需求，必须通过应用反馈回路、机器学习或两者的结合来完成大量数据的处理。
