NANOFABRICATOR™ LITE 标准版原子层沉积打印系统--直接原子层沉积打印--复纳科技

DALP Technology: Atomic-Level Precision Control

DALP技术
原子级精确控制

NANOFABRICATOR™ LITE 拥有关键特性，可简化并提升研发过程。它专为快速原型设计和新型器件结构开发而打造，支持广泛的原子层沉积（ALD）材料工艺。

Why choose NANOFABRICATOR™ LITE

为什么选择 LITE 标准版原子层沉积打印系统？

精确

0.3 nm 台阶与原子级控制确保亚纳米精度
多材料能力

可在原子尺度切换，轻松驾驭数百种材料与多种基材
速度

数周流程缩至数天，实现超快速迭代
灵活性

一次成型复杂几何，无需光刻掩膜
效率

免洁净室、减 90% 浪费，运营成本直线下降

精确

0.3 nm 台阶与原子级控制确保亚纳米精度

多材料能力

可在原子尺度切换，轻松驾驭数百种材料与多种基材

速度

数周流程缩至数天，实现超快速迭代

灵活性

一次成型复杂几何，无需光刻掩膜

效率

免洁净室、减 90% 浪费，运营成本直线下降

Technical Highlights

技术亮点

无需掩膜完成图案化微区ALD

原子级设计：通过单个工艺步骤逐个原子地创建多层结构

掌握复杂的几何形状：90° 壁、深腔（最多 60 微米）和复杂纳米结构上的均匀涂层

大气压氛围操作（无需真空）

新型装置：制造布拉格镜、MIM电容器和垂直互连等先进设备

Product Application

产品应用

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先进封装与半导体

Advanced packaging & semiconductor

随着半导体架构的发展和封装需求的增强，传统的制造方法面临越来越多的限制。原子级的直接材料处理可以实现复杂的集成电路开发和先进的系统集成。

光学与光子学

Optics & Photonics

在光操控领域工作的科学家和工程师面临着一个根本挑战：弥合理论潜力与物理实现之间的差距。通过实现光学材料的直接原子层处理，新的设备架构方法成为可能。

传感器和微机电系统

Sensors & MEMS

一步即可从设计直接转化为功能原型。无需多台机器或多道工艺步骤，即可构建气体传感器和 MIM 电容器等复杂设备。快速测试不同的材料组合和结构，以优化设备性能。

Product Specifcation

产品规格参数

总体指标
打印区域	最多4英寸
生长厚度	最厚10mm，可以实现不同位置或线条厚度梯度变化
样品加热温度	50℃-300℃
样品台移动速度	10-200mm/s
样品台分辨率	100nm
样品装载方式	手动

工艺
工艺腔	大气环境
Nozzle 分辨率	350um(50um-2mm开发中)
对准精度	5um
基板到喷嘴间隙	干涉测量系统

气体系统

前驱源及气源系统

前驱源标配2路

反应源1路

反应气体1路

前驱源加热温度

RT-150℃

设备
设备放置	光学平台（可选）
设备尺寸	1400mm*800mm

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User Reviews

用户评价

美国佛蒙特大学
卢森堡科学技术研究所
美国威斯康星大学麦迪逊分校

美国佛蒙特大学

我们非常高兴能够利用 ATLANT 3D NanofabricatorLite (NFL)前所未有的强大功能来探索复杂薄膜材料和界面的原子级工程。这款尖端工具将在推动我们对下一代电池、模拟神经形态计算材料、高功率 GaN 电子器件以及钙钛矿太阳能电池活性层的研究方面发挥关键作用，突破材料科学和器件创新的极限。