ATLANT 3D 直接原子层打印技术- 复纳科技

ATLANT 3D DALP® technology

ATLANT 3D 直接原子层打印系统

开创式的直接原子层打印（DALP® ）技术，精准控制沉积，实现无掩膜一步式图案化 ALD

What is Direct Atomic Layer Printing (DALP)

什么是直接原子层打印技术

直接原子层打印技术

直接原子层打印技术代表了制造方法的根本性转变。通过将时间和空间原子层处理集成到单一系统中，我们创建了一种直接进行无掩膜图案化ALD工艺的技术。专有的微化学反应器能够精确控制分子沉积，同时无需传统的光掩模和多个工艺步骤。

Product Presentation

产品展示

NANOFABRICATOR™ LITE
标准版原子层沉积打印系统

首台台式直接原子层打印设备，专为快速原型设计和新设备结构的开发而设计

Product Advantages

产品优势

单步工艺即可逐个原子构建多层结构

原子级精准操控

实现 0.3nm 级的精确梯度

兼容数百种材料

包括金属、半导体与氧化物

复杂形貌掌控

在 90°直角及深腔等难处理表面获得均匀镀层

快速原型制作

迭代周期极短

无需洁净室

废料减少 90%，运营成本更低

Application Area

应用领域

先进封装与半导体
ALD与先进材料
光学与光子学
传感器与微机电系统
射频与印刷电子
电池与能源
生物技术与医疗器械

先进封装与半导体

ALD与先进材料

光学与光子学

传感器与微机电系统

射频与印刷电子

电池与能源

生物技术与医疗器械

Application Cases!

应用案例

Si上的金属电极
玻璃上的金属电极
硅基金属氧化物的可变形状和梯度
玻璃上的金属氧化物可变形状和梯度

Si上的金属电极

玻璃上的金属电极

硅基金属氧化物的可变形状和梯度应用案例

硅基金属氧化物的可变形状和梯度

玻璃上的金属氧化物可变形状和梯度应用案例

玻璃上的金属氧化物可变形状和梯度

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